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净化工程的概念

发布时间:2020-11-28 19:07:42浏览次数:

空气洁净的概念1.空气洁净度是指结晶环境中空气所含悬浮粒子数量多少的程度。2.简述室内污染物的控制方法?(1)控制污染源,减少污染发生量。(2)有效地阻止室外的污染物侵入室内。(3)迅速有效地排除室内已经发生的污染。(4)流速控制。(5)系统的气密性。(6)建筑上的措施。3.常见空气污染物种类:1)悬浮在空气中的固态、液态微粒。2)霉菌、致病菌等悬浮在空气中的微生物。3)各种对人体或生产过程有害的气体。4.计数浓度是以单位体积空气中含有的微粒个数表示,单位为pc/L。质量浓度是以单位体积空中所含微粒质量表示,单位为mg/L。沉降浓度是以单位时间单位面积自然沉降下来的微粒个数或质量表示。单位为pc/(cm^2h)  5.洁净室的三大特点:1)洁净室是空气的洁净度达到一定级别的可供人活动的空间,其功能是能控制微粒和微生物的污染。2)洁净室是一个多功能的综合整体,需要多专业配合—建筑、空调、净化、纯水、纯气等。3)评价洁净室的质量,设计、施工和运行管理都很重要,即洁净室是通过从设计到管理的全过程来体现其质量的。6.洁净室按用途分类:1)工业洁净室。2)生物洁净室:一般生物洁净室,生物安全洁净室。按气流流型分类:1)单向流洁净室。2)非单向流洁净室。3)混合流洁净室。4)辐流洁净室。


净化工程的概念


洁净室中的温湿度控制洁净空间的温湿度主要是根据工艺要求来确定,但在满足工艺要求的条件下,应考虑到人的舒适度感。随着空气洁净度要求的提高,出现了工艺对温湿度的要求也越来越严的趋势。具体工艺对温度的要求以后还要列举,但作为总的原则看,由于加工精度越来越精细,所以对温度波动范围的要求越来越小。例如在大规模集成电路生产的光刻曝光工艺中,作为掩膜板材料的玻璃与硅片的热膨胀系数的差要求越来越小。直径100 um的硅片,温度上升1度,就引起了0.24um线性膨胀,所以必须有±0.1度的恒温,同时要求湿度值一般较低,因为人出汗以后,对产品将有污染,特别是怕钠的半导体车间,这种车间不宜超过25度。湿度过高产生的问题更多。相对湿度超过55%时,冷却水管壁上会结露,如果发生在精密装置或电路中,就会引起各种事故。相对湿度在50%时易生锈。此外,湿度太高时将通过空气中的水分子把硅片表面粘着的灰尘化学吸附在表面耐难以清除。相对湿度越高,粘附的难去掉,但当相对湿度低于30%时,又由于静电力的作用使粒子也容易吸附于表面,同时大量半导体器件容易发生击穿。对于硅片生产最佳温度范围为35—45%。
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